1. 高性能光學(xué)系統(tǒng)，光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室，實現(xiàn)光路直通，有效的降低光路損耗；采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量；測定結(jié)果精準，重復(fù)性及長期穩(wěn)定性極佳。

2. 自動光路校準，光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。

3. 插拔式透鏡設(shè)計，真空光學(xué)系統(tǒng)采用獨特的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護方便快捷。

4. 真空室一體化，獨特的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空時間僅普通光譜儀的1/2；真空室一體化設(shè)計及高精密的加工，使真空保持的更加持久。

5. 真空防返油技術(shù)，多級隔離的真空防返油技術(shù)，采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離；中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進入真空室，保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。

6. 開放式激發(fā)臺，開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析；配合使用小樣品夾具，線材最低分析可達到3mm。

7. 噴射電極技術(shù)，采用國際最先進的噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；配上獨特氬氣氣路設(shè)計，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。

8. 集成氣路模塊，氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護設(shè)計，替代電磁閥和流量計，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

9. 數(shù)字化激發(fā)光源，數(shù)字激發(fā)光源，采用國際最為先進的等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品；全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出；可任意調(diào)節(jié)光源的各項參數(shù)，滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

10. 高速數(shù)據(jù)采集，儀器采用高性能CMOS檢測元件，具有每塊CMOS單獨超高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

11. 以太數(shù)據(jù)傳輸，計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時計算機和打印機完全外置，方便升級和更換；可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

12. 預(yù)制工作曲線，備有不同材質(zhì)和牌號的標樣庫，儀器出廠時工廠預(yù)制工作曲線，方便安裝調(diào)試和及時投入生產(chǎn)；根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動選擇最優(yōu)測試條件；技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標樣免費繪制或延長工作曲線）。

13. 分析速度快，僅需20秒即可完成一次分析；針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及測量時間，使儀器用最短時間達到最優(yōu)的分析效果。

14. 多基體分析，光路設(shè)計采用羅蘭圓結(jié)構(gòu)，檢測器上下交替排列，保證接收全部的譜線，不增加硬件設(shè)施，即可實現(xiàn)多基體分析；便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素（無硬件成本）。

軟件中英文系統(tǒng)，儀器操作軟件完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)；軟件操作簡單，即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓(xùn)即可上手使用。